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[新闻] 韩国：极紫外光刻专利连年增长 硬件相关领域成果亮眼

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西镰邦潘 发表于 2021-1-11 14:18:06 | 只看该作者 打印 上一主题 下一主题
 
来源：科技日报

本报驻韩国记者 邰举

韩国知识产权局发布的报告显示，过去10年来，向该局申请极紫外（EUV）光刻相关专利的韩国企业数量连年增长，其中2019年的50件申请中，韩国企业提交了40个，不完全统计2020年的申请中，韩国企业提交的部分也达到国外企业申请的两倍以上。

韩国科学技术院研究团队参与的一项国际联合研究，开发出“非线性量子机器学习AI算法”，显示出超越需要大规模计算的现有AI技术的可能。韩国电子通信研究院和SK电信合作，开发出超低功耗NPU芯片，采用单独开关，通过每个计算单元的软件技术将AI芯片的电力消耗降低了一个数量级。


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标签：韩国2020年2019年韩国记者知识产权
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